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氟化钙颗粒(CaF2)

氟化钙颗粒(CaF2)
  • 氟化钙颗粒(CaF2)
氟化钙颗粒(CaF2)基本信息
分子式CaF2
纯度99.99%
CAS号7789-75-5
摩尔质量78.075
密度3.18 g/cm³
熔点1402 ℃
沸点2500 ℃
溶解性(水)极难溶于水。可溶于盐酸、氢氟酸、硫酸、硝酸和铵盐溶液,不溶于丙酮。

氟化钙颗粒(CaF2)产品概况

无色结晶晶颗粒,一般采用钨、钼、钽材制作的蒸发舟或坩埚。

属等轴晶系,呈立方体、八面体或者十二面体。

附加:一般的CaF2为无色结晶或白色粉末,天然矿石中含有杂质,略带绿色或紫色,加热时发光。溶于铝盐和铁盐溶液时形成络合物,与热的浓硫酸作用生成氢氟酸。氟化钙跟浓硫酸在铅制容器中反应可制得氟化氢。能与多种金属氧化物形成低共熔物。

二氧化钛靶材是以高纯钛源(≥99.99%)通过高能球磨-真空热压或热等静压烧结工艺制备的陶瓷溅射源,纯度≥99.95%,密度≥3.9 g/cm³(相对密度≥98%)。其具备可调晶相结构(锐钛矿/金红石比例)、宽光谱响应(3.0-3.2 eV带隙)、高溅射产率(>15 nm/min)及低电阻率(10⁻²-10³ Ω·cm可调)特性,专用于沉积光催化薄膜、钙钛矿电池电子传输层、电致变色器件及抗菌涂层。通过氧化学计量调控(TiO₂₋ₓ, x=0-0.25)、纳米晶粒控制(≤50 nm)及基底粘附强化(梯度结构),满足柔性电子、智能窗及新能源器件对高性能氧化物薄膜的核心需求。


氟化钙颗粒(CaF2)产品应用

◉ 光刻机光学系统
​193nm光刻镜头​:
波前像差<λ/50 RMS @193nm
使用寿命>10⁹脉冲无性能衰减
​关键技术​:热场梯度法生长(温度波动<0.01℃)
​◉ 半导体干法蚀刻
​3D NAND通道孔蚀刻​:
深宽比60:1孔道直线度偏差<0.1°
关键尺寸均匀性 3σ<0.8nm
​机制​: (111)晶面自终止蚀刻效应
​◉ 医疗植入体
​抗菌骨修复支架​:
抗压强度>120MPa|孔隙率70%可控
体内氟离子释放周期>6个月
​降解适配性​:12个月降解率匹配骨生长速度
◉ 氟化物固态电解质
​全固态电池界面层​:
离子电导率 3×10⁻⁴ S/cm(@60℃)
锂枝晶抑制电压>6V

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