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部分产品未及时更新，特殊定制需求请咨询客服。
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产品中心
PRODUCTS
镍钽颗粒（NiTa）
| 镍钽颗粒（NiTa）基本信息 | |
| 分子式 | Ni50Ta50wt% |
| 纯度 | 99.9% |
| CAS号 | 无独立CAS号 |
| 摩尔质量 | 随配比变化 |
| 密度 | 随成分变化 |
| 熔点 | 无单一熔点 |
| 沸点 | 无固定沸点 |
| 溶解性（水） | 常温不溶于水；耐稀酸；可被 HF、浓硝酸 + HF 混合酸腐蚀；空气中常温形成钝化氧化膜 |
镍钽颗粒（NiTa）产品概况
镍钽 NiTa 合金颗粒，一般采用真空感应熔炼 + 气雾化 / 破碎制粒，球形 / 不规则颗粒，粒度可定制，多用于真空热蒸发、电子束蒸发，也作为制备 NiTa 溅射靶的原料；也有客户直接用颗粒做 EB 蒸镀薄膜。 NiTa 薄膜兼具 Ta 的高阻挡特性与 Ni 的粘附性，和 NiV、Ta、TaN 同属半导体互连阻挡层材料。合金配比是核心：Ta 含量决定阻挡能力、电阻率、热稳定性。
| 镍钽颗粒（NiTa）产品应用 |
薄膜应用：
1. 半导体芯片（核心）：铜互连结构扩散阻挡层，阻挡 Cu 向 Si / 低 k 介质扩散，替代部分 NiV、Ta/TaN 体系，兼顾附着力与阻挡稳定性
2. 真空蒸镀 / 电子束蒸发：科研、器件试样制备，直接用 NiTa 颗粒 EB 蒸镀沉积合金薄膜
3. 薄膜电阻、低温器件：高稳定性金属电阻薄膜、微电子欧姆接触层
4. 防腐、耐磨涂层：耐蚀合金涂层，腐蚀工况防护膜层
5. 靶材坯料原料：熔炼制备 NiTa 合金溅射靶的母料
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