氮化钨（WNₓ）溅射靶材Product overview

氮化钨靶材采用高纯钨粉（≥99.99%）与高纯氮气（≥99.999%）为原料，通过 反应等离子烧结（RPS） 工艺制备的高硬度、高导电性复合陶瓷靶材。核心特性包括：

• 相结构精确可控（β-W₂N为主相，可调W₃N、WN相）

• 超高密度≥99.5%（孔隙率＜0.3%）

• 超低氧含量（O＜30ppm，C＜15ppm）

• 纳米级晶粒尺寸（平均晶粒尺寸 20-80nm）

  在直流磁控溅射中实现 薄膜电阻率＜150μΩ·cm，硬度 ＞25GPa，与铜的附着力 ＞40MPa。

核心价值源于其“导电-硬度”协同特性

▶ 卓越的机械与电学性能

• 维氏硬度 25-30GPa（接近立方氮化硼）

• 电阻率 120-200μΩ·cm（媲美高导电金属）

• 摩擦系数 0.4-0.5（自润滑特性）

▶ 高温稳定性与界面性能

• 抗氧化温度 ＞700℃（表面形成致密WO₃保护层）

• 铜扩散阻挡温度 ＞650℃（硅基衬底）

• 优异的抗热震性（ΔT＞500℃循环无开裂）

▶ 化学稳定性

• 耐强酸腐蚀（王水中失重率＜0.1mg/cm²·h）

• 低氢渗透率（＜10⁻¹³ mol H₂/m·s·Pa）

主导应用覆盖先进半导体与高端制造​
1. 纳米集成电路
▸ Cu/Co互联扩散阻挡层（厚度＜5nm，方块电阻＜10Ω/□）
▸ 三维存储器（3D NAND）阶梯接触孔填充（深宽比＞10:1）
2. 超硬耐磨涂层
▸ 精密刀具镀层（铣刀、钻头寿命提升 3-8倍）
▸ 模具表面强化（冲压/注塑模具寿命延长 ＞5倍）

3. 新能源与储能

▸ 锂离子电池集流体涂层（提升硅负极循环寿命 ＞300次）
▸ 质子交换膜燃料电池双极板防护层（接触电阻 ＜8mΩ·cm²）
4. 光学与传感器
▸ 红外隐身涂层（3-5μm波段发射率 ＜0.3）
▸ 高灵敏度气体传感器催化层（对NO₂检测限 ＜1ppm）