科泰新材料可提供“元索周期表”近乎全元素(除放射性元素外)的任意组合材料定制,
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| 铜锆铪钛靶材(Cu-Zr-Hf-Ti)基本信息 | |
| 分子式 | Cu-Zr-Hf-Ti |
| 纯度 | 99.9% |
| CAS号 | 无单独 CAS号 |
| 摩尔质量 | 无固定摩尔质量 |
| 密度 | 约8.6–9.2 g/cm³ |
| 熔点 | 无单一熔点,为熔化区间,约 1020~1250 ℃ |
| 沸点 | 无固定沸点 |
| 溶解性(水) | 不溶于水;可被氢氟酸、浓硝酸、王水缓慢腐蚀;常温下耐弱酸、中性溶液腐蚀 |
铜锆铪钛(CuZrHfTi)高熵合金靶材,是由铜、锆、铪、钛四种金属按近等原子比复合而成的多主元合金溅射靶材,属于新型非晶 / 高熵合金体系。
制备工艺:真空电弧熔炼→锻造 / 粉末冶金→精密机加工、绑定背板;可加工圆形、矩形靶,尺寸按需定制;
材料特点:高硬度、良好热稳定性、耐蚀性,薄膜成分均匀,溅射时颗粒少;兼具 Cu 的导电特性与 Zr/Hf/Ti 的阻隔、抗氧化特性;
形式:溅射靶(带铜背板绑定 / 无背板毛坯)、合金锭、颗粒。
| 铜锆铪钛靶材(Cu-Zr-Hf-Ti)产品应用 |
薄膜应用:
1. 半导体薄膜:扩散阻挡层、金属化过渡层,阻止铜扩散,用于先进芯片金属互连体系;
2. 功能防护涂层:模具、精密零部件耐磨、抗腐蚀、抗氧化薄膜;
3. 微电子与 MEMS 器件:电极、多层复合薄膜、界面粘附层;
4. 光学、能源薄膜:耐辐照防护膜、界面缓冲层;
5. 科研领域:实验室 PVD 磁控溅射,高熵合金薄膜机理研究。