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二硅化锆靶材(ZrSi2)

二硅化锆靶材(ZrSi2)
  • 二硅化锆靶材(ZrSi2)
二硅化锆靶材(ZrSi2)基本信息
分子式ZrSi2
纯度99.9%
CAS号12039-90-6
摩尔质量147.40 g/mol
密度4.88 g/cm³(25℃)
熔点1790ºC
沸点无固定沸点,高温下硅组分易挥发
溶解性(水)不溶于水。它不溶于酸、碱和王水。

二硅化锆靶材(ZrSi2)产品概况

二硅化锆(ZrSi₂)是锆硅体系稳定的金属间化合物,斜方晶系,钢灰色晶体,兼具陶瓷的耐高温、耐磨腐蚀特性与金属导电性、导热性、低电阻率;靶材一般采用粉末冶金、热压 / 热等静压工艺制备,可绑定铜背靶,加工成圆靶、方靶、台阶靶等,用于磁控溅射沉积硅化锆薄膜,溅射过程成分稳定性好、抗热震能力强,适合高功率长时间溅射工况。

二硅化锆靶材(ZrSi2)产品应用

薄膜应用
1. 半导体微电子:硅基器件欧姆接触层、栅阻挡层、扩散阻挡薄膜,与硅基底相容性好,作为硅化物接触薄膜;先进封装、功率器件薄膜
2. 高温抗氧化防护涂层:航空航天、热端部件、耐蚀耐磨涂层,高温氧化后可生成自修复型硅酸锆保护层;核燃料包壳耐事故抗氧化涂层研究方向
3. 硬质功能涂层:刀具、模具耐磨涂层,提升表面硬度与抗侵蚀性能
4. 光伏、显示、光存储:功能导电薄膜、光学调节薄膜、装饰硬质涂层
5. 高温陶瓷与复合材料:超高温陶瓷增强相、高温坩埚、热障相关薄膜体系

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