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| 氧化铝蒸发料(Al2O3)essential information | |
| Molecular formula | Al2O3 |
| purity | 99.99% |
| CAS No | 1344-28-1 |
| Molar mass | 101.961 |
| density | 3.97g/cm3 |
| melting point | 2050ºC |
| boiling point | 2980ºC |
| Solubility (water) | 不溶于水、醇、和醚,微溶于碱和酸 |
氧化铝蒸发料是以拜耳法氢氧化铝或高纯铝为原料,经高温烧结(>1700℃)、冷等静压成型或电弧熔融制备的灰白色高纯陶瓷颗粒(纯度≥99.99%),专用于真空蒸镀制备光学镀膜、半导体绝缘层及耐磨涂层。其具备超高温稳定性(熔点2050℃)、极低蒸气压及宽带隙(8.8 eV),通过晶向控制(c轴择优取向)、致密化改性(密度>3.95 g/cm³) 及掺杂调节,满足精密光学、微电子及超硬涂层的严苛要求。
| 氧化铝蒸发料(Al2O3)Product application |
◉ 深紫外光刻镜头
193nm增透膜
基底:熔融石英|沉积温度:200℃
性能:
- 单面反射损失<0.1%
- 波前畸变<λ/50 @193nm
工艺方案:离子束辅助蒸发(IAD)优化膜层致密度
◉ 功率半导体封装
IGBT芯片钝化层
击穿电压>10kV|漏电流<1nA/cm²@200℃
创新设计:梯度Al₂O₃/SiNx叠层(界面电荷陷阱密度↓90%)
◉ 航空发动机热障
涡轮叶片粘结层
1400℃氧化增重<0.1mg/cm²(200小时)
协同机制:Al₂O₃抑制TGO层(NiAl涂层寿命↑300%)
◉ OLED水氧阻隔
柔性显示封装膜
WVTR<10⁻⁶ g/m²/day @85℃/85%RH
弯曲半径<2mm(10万次循环后阻隔性不变)