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产品中心
PRODUCTS
氧化铋靶材（Bi2O3）
| 氧化铋靶材（Bi2O3）基本信息 | |
| 分子式 | Bi2O3 |
| 纯度 | 99.99% |
| CAS号 | 1304-76-3 |
| 摩尔质量 | 465.959 |
| 密度 | 8.9 g/cm³ |
| 熔点 | 825 ℃ |
| 沸点 | 1890 ℃ |
| 溶解性（水） | 不溶于水、碱液；可溶于盐酸、硝酸等强酸 |
氧化铋靶材（Bi2O3）产品概况
Bi₂O₃靶材是以高纯氧化铋粉体为原料，通过冷压 / 热压、气氛烧结工艺制备而成的陶瓷溅射靶材，外观呈淡黄色，可加工成圆片、方板等规格，按需绑定铜背板；靶材致密度通常≥95%，晶型主要为单斜相 α‑Bi₂O₃。
| 氧化铋靶材（Bi2O3）产品应用 |
Bi₂O₃靶材主要通过射频磁控溅射制备氧化铋薄膜，薄膜具备高折射率、光催化、介电及离子导电特性。主要应用于光学镀膜、光催化器件、铁电压电薄膜、氧传感器、固体电解质，也用于半导体、科研实验制备铋系功能薄膜。
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