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铯钨青铜靶材(Cs0.33WO3)

铯钨青铜靶材(Cs0.33WO3)
  • 铯钨青铜靶材(Cs0.33WO3)
铯钨青铜靶材(Cs0.33WO3)基本信息
分子式Cs0.33WO3
纯度99.9%
CAS号189619-69-0
摩尔质量276.0 g/mol
密度7.2 g/cm³
熔点高温下先分解，无明确常压熔点；高温易失 Cs、失氧，钨氧化物体系熔融温度 > 1400℃
沸点常压无沸点，高温分解挥发（Cs 元素易高温逸出）
溶解性（水）不溶于水、乙醇；耐稀酸、稀碱；可被浓氢氟酸、熔融强碱缓慢腐蚀

铯钨青铜靶材(Cs0.33WO3)产品概况

铯钨青铜靶材，六方晶系钨青铜结构，外观蓝黑色致密陶瓷块。

  • 制备工艺：CsₓWO₃粉体→热压 / 热等静压 HIP 高温烧结→精密机加工；致密度≥95%；

  • 产品形态：圆靶、方靶；采用铟焊绑定无氧铜背板，提升溅射散热；

  • 薄膜核心特性：可见光高透过，近红外强吸收阻隔，同时具备一定导电性，是新一代透明隔热光学薄膜材料；

  • 工艺提示：溅射时需控制氧分压，防止薄膜铯流失、组分偏移，影响红外阻隔性能。


铯钨青铜靶材(Cs0.33WO3)产品应用

薄膜应用：
1. 节能 Low-E 薄膜：建筑节能玻璃透明隔热涂层，可见光高透，阻隔近红外热量，降低空调能耗。
2. 汽车隔热光学膜：汽车天窗、前挡玻璃的透明隔热薄膜，替代传统 ITO 隔热膜。
3. 智能窗（电致变色窗）：智能调光窗功能层，光谱调控薄膜。
4. 光学器件：红外滤光片、红外传感器光学涂层、激光光热吸收薄膜。
5. 科研领域：光电薄膜、透明导电薄膜、等离子体光学方向磁控溅射实验。

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