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五氧化二铌靶材(Nb2O5)

五氧化二铌靶材(Nb2O5)
  • 五氧化二铌靶材(Nb2O5)
五氧化二铌靶材(Nb2O5)基本信息
分子式Nb2O5
纯度99.99%
CAS号1313‑96‑8
摩尔质量265.81 g/mol
密度4.47 g/cm³
熔点1520 ℃
沸点高温下分解,无明确常压沸点
溶解性(水)不溶于水、多数稀酸;可溶于氢氟酸、热浓硫酸;溶于熔融碱金属氢氧化物、碳酸盐、硫酸氢钾

五氧化二铌靶材(Nb2O5)产品概况

五氧化二铌靶材为高纯陶瓷靶材,由 Nb₂O₅粉体经成型、高温烧结制成,可按需求定制尺寸、绑定铜背靶;分为平面靶、旋转管靶两种主流形态。 材料特点:高折射率(n≈2.2‑2.35)、宽透光波段 0.35‑9 μm、高介电常数、化学稳定性好、耐高温耐腐蚀;靶材致密度直接影响溅射成膜质量,致密度越高薄膜缺陷越少。通过磁控溅射制备五氧化二铌薄膜,薄膜致密、耐磨耐潮,光学损耗低。

五氧化二铌靶材(Nb2O5)产品应用

薄膜应用:
1. 光学镀膜(最主要):与 SiO₂搭配制备多层光学膜:增透膜、高反膜、干涉滤光片;用于手机镜头、相机镜片、眼镜镀膜、激光元件、光通信光波导、红外光学器件、显示面板保护层。
2. 半导体与微电子:高 k 介电绝缘薄膜、电容介质层、器件绝缘保护层,利用高介电常数用于微型电子元器件。
3. 新能源:锂电池相关功能薄膜、光电器件、部分太阳能电池功能层。
4. 其他:耐腐蚀防护涂层;作为基底制备铌酸盐相关功能薄膜;部分光电传感器件镀膜。

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