五氧化二铌靶材(Nb2O5)Product overview

五氧化二铌靶材为高纯陶瓷靶材，由 Nb₂O₅粉体经成型、高温烧结制成，可按需求定制尺寸、绑定铜背靶；分为平面靶、旋转管靶两种主流形态。 材料特点：高折射率（n≈2.2‑2.35）、宽透光波段 0.35‑9 μm、高介电常数、化学稳定性好、耐高温耐腐蚀；靶材致密度直接影响溅射成膜质量，致密度越高薄膜缺陷越少。通过磁控溅射制备五氧化二铌薄膜，薄膜致密、耐磨耐潮，光学损耗低。

薄膜应用：
1. 光学镀膜（最主要）：与 SiO₂搭配制备多层光学膜：增透膜、高反膜、干涉滤光片；用于手机镜头、相机镜片、眼镜镀膜、激光元件、光通信光波导、红外光学器件、显示面板保护层。
2. 半导体与微电子：高 k 介电绝缘薄膜、电容介质层、器件绝缘保护层，利用高介电常数用于微型电子元器件。
3. 新能源：锂电池相关功能薄膜、光电器件、部分太阳能电池功能层。
4. 其他：耐腐蚀防护涂层；作为基底制备铌酸盐相关功能薄膜；部分光电传感器件镀膜。