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产品中心
PRODUCTS
一氧化硅靶材（SiO)
| 一氧化硅靶材（SiO)基本信息 | |
| 分子式 | SiO |
| 纯度 | 99.99% |
| CAS号 | 10097‑28‑6 |
| 摩尔质量 | 44.08 g/mol |
| 密度 | 44.08 g/mol |
| 熔点 | 1702 ℃ |
| 沸点 | 1880 ℃ |
| 溶解性（水） | 不溶于水；溶于热浓碱、HF‑HNO₃混合酸；不溶于普通酸 |
一氧化硅靶材（SiO)产品概况
一氧化硅靶采用热压烧结 / 放电等离子烧结 SPS工艺制备，黑‑棕黑色多晶陶瓷固体，可加工圆靶、方靶；商用靶致密度≥95% 理论密度。 靶材绝缘，仅支持 RF 射频溅射，不可 DC 直流溅射。 材料本身热力学不稳定，高温下易歧化分解为单质硅与二氧化硅；溅射过程需要控制基底温度，抑制薄膜内部歧化反应。 SiO 薄膜折射率约 1.9‑2.1，介于 Si 与 SiO₂之间，是重要的光学介质膜材料。
| 一氧化硅靶材（SiO)产品应用 |
薄膜应用：
1. 光学镀膜：制备多层光学干涉膜、增透膜、分光镜、反射保护膜；可见光‑近红外波段光学涂层，镜片、光学元器件镀膜。
2. 锂电池负极薄膜：SiO 薄膜负极材料，高比容量，用于薄膜锂电池研发，是硅基负极重要体系。
3. 半导体与 MEMS：介质过渡层、钝化薄膜；SiO 薄膜兼具一定导电性与绝缘可调特性，用于微纳器件实验研发。
4. 显示器件：显示面板介电层、保护层薄膜；光学补偿膜层。
5. 防腐蚀、防潮保护层：金属、塑料基底防护涂层，膜层附着力好，阻隔水汽氧气。
6. 传感器：光学传感器、部分气敏器件的介质薄膜层。
7. 科研实验：非化学计量硅氧化物体系基础研究。
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