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镍铁靶材(NiFe)

镍铁靶材(NiFe)
  • 镍铁靶材(NiFe)
镍铁靶材(NiFe)基本信息
分子式NiFe
纯度99.9%、99.95%、99.99%
CAS号无单一 CAS；Ni：7440‑02‑0，Fe：7439‑89‑6
摩尔质量无固定摩尔质量
密度8.4‑8.6 g/cm³
熔点1450 ℃
沸点无明确沸点，高温汽化
溶解性（水）不溶于水；可溶于稀硝酸、王水；缓慢被稀盐酸腐蚀；耐弱碱

镍铁靶材(NiFe)产品概况

镍铁合金靶采用真空感应熔炼 + 热加工工艺制备，金属银灰色固体，软磁二元合金；可加工圆靶、方靶、旋转管状靶；商用靶致密度≥99%，晶粒尺寸可控，保证溅射薄膜成分均匀一致。 靶材导电优异，优先 DC 直流溅射，溅射速率稳定；作为软磁材料，具备高磁导率、低矫顽力；靶材本身带磁性，磁控溅射设备需要考虑靶材磁场匹配问题。 

主流牌号 Ni80Fe20（1J79 坡莫合金），也可按客户需求定制 Ni50Fe50、Ni70Fe30 等其他组分靶材；产品真空封装，防止表面氧化。

镍铁靶材(NiFe)产品应用

薄膜应用：
1. 磁传感器、磁敏薄膜：制备高磁导率坡莫合金薄膜，巨磁阻 GMR 传感器、各向异性磁电阻 AMR 传感器，电流传感器、位置检测传感器，广泛用于消费电子、工业控制。
2. 电磁屏蔽薄膜：半导体、柔性器件电磁屏蔽层，抑制 EMI 电磁干扰。
3. 磁存储、磁头薄膜：硬盘读出头软磁薄膜，磁记录器件功能膜层。
4. 微磁器件、薄膜变压器：MEMS 微型磁元件、高频薄膜变压器、微型电感软磁薄膜。
5. 半导体微电：磁电子器件、自旋电子实验薄膜，凝聚态磁学科研试样。
6. 航天电子器件：高可靠磁敏元器件、抗干扰磁性薄膜。
7. 显示与精密器件：部分磁控功能薄膜，精密器件磁屏蔽涂层。

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