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高纯钛靶材（Ti）

高纯钛靶材（Ti）
  • 高纯钛靶材（Ti）
高纯钛靶材（Ti）基本信息
分子式Ti
纯度99.9%、99.99%、99.999%
CAS号7440-32-6
摩尔质量47.867 g/mol
密度4.506 g/cm³
熔点1668 ℃
沸点3287 ℃
溶解性（水）不溶于水；常温耐稀酸、碱；可溶于氢氟酸、浓硫酸、硝酸混合酸

高纯钛靶材（Ti）产品概况

薄膜应用

  1. 半导体集成电路（最核心）：铜互连结构中 Ti/TiN 堆叠层；Ti 作为粘附层 + 吸气层，增强介质层与 TiN 阻挡层结合力，吸收界面氧，阻止铜向硅基底扩散；用于逻辑芯片、存储芯片。

  2. 显示面板（TFT/OLED/MiniLED）：金属电极粘附层、欧姆接触层，提升 ITO / 金属电极与基板附着力。

  3. 光伏电池：背电极粘附层、接触层薄膜，提升电极稳定性。

  4. MEMS、传感器：金属电极、扩散阻挡层、吸气薄膜。

  5. 硬质涂层、医疗器械：Ti 基底膜，反应溅射生成 TiN 耐磨涂层；医用植入件生物相容涂层。

  6. 光学薄膜：TiO₂光学膜的反应溅射前驱金属层。


高纯钛靶材（Ti）产品应用

薄膜应用：
1. 半导体集成电路（最核心）：铜互连结构中 Ti/TiN 堆叠层；Ti 作为粘附层 + 吸气层，增强介质层与 TiN 阻挡层结合力，吸收界面氧，阻止铜向硅基底扩散；用于逻辑芯片、存储芯片。
2. 显示面板（TFT/OLED/MiniLED）：金属电极粘附层、欧姆接触层，提升 ITO / 金属电极与基板附着力。
3. 光伏电池：背电极粘附层、接触层薄膜，提升电极稳定性。
4. MEMS、传感器：金属电极、扩散阻挡层、吸气薄膜。
5. 硬质涂层、医疗器械：Ti 基底膜，反应溅射生成 TiN 耐磨涂层；医用植入件生物相容涂层。
6. 光学薄膜：TiO₂光学膜的反应溅射前驱金属层。

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