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产品中心
PRODUCTS
铌靶材（Nb)
| 铌靶材（Nb)基本信息 | |
| 分子式 | Nb |
| 纯度 | 99.9%，99.99% |
| CAS号 | 7440‑03‑1 |
| 摩尔质量 | 92.91 g/mol |
| 密度 | 8.57 g/cm³ |
| 熔点 | 2468 ℃ |
| 沸点 | 4744 ℃ |
| 溶解性（水） | 不溶于水；常温下耐稀酸、耐碱；可溶于氢氟酸、硝酸‑氢氟酸混合酸；高温下可被强碱腐蚀 |
铌靶材（Nb)产品概况
铌靶材是以金属铌为原料，通过真空电子束熔炼或粉末冶金工艺制成的高纯溅射靶材。 可加工成圆形、矩形平面靶、旋转管状靶材。铌属于难熔金属，硬度适中，导热导电性能良好，化学抗腐蚀性能优异。靶材关键指标为纯度、致密度、晶粒大小与取向，直接影响溅射速率、薄膜均匀性。
| 铌靶材（Nb)产品应用 |
薄膜应用：
1.半导体微电子作为阻挡层、粘附层薄膜，用于芯片、分立器件，阻挡铜扩散，提升金属层与基底结合力。
2.表面防护涂层制备耐腐蚀、耐高温金属铌薄膜，用于化工器件、特种零部件防护镀层。
3.超导领域制备铌基超导薄膜，用于超导谐振腔、超导器件。
4.光学与显示行业金属铌薄膜，用于部分遮光层、电极、装饰镀膜。
5.新能源光伏器件、电池元器件导电 / 功能薄膜。
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