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高纯铋靶材（Bi）

高纯铋靶材（Bi）
  • 高纯铋靶材（Bi）
高纯铋靶材（Bi）基本信息
分子式Bi
纯度99.99%、99.999%、99.9999%
CAS号7440-69-9
摩尔质量208.98 g/mol
密度9.78 g/cm³
熔点544.7 K，271.5 °C，520.7 °F
沸点1837 K，1564 °C，2847 °F
溶解性（水）不溶于水；可溶于硝酸、热浓硫酸，不溶于稀盐酸

高纯铋靶材（Bi）产品概况

高纯铋靶材是以高纯金属铋为原料，经真空熔炼、成型、精密机加工制成的磁控溅射源材料。 铋为银白略带淡粉色的脆性半金属，天然反磁性，金属里热导率很低；凝固时体积膨胀，熔点很低。靶材常规做成圆形、矩形，可绑定铜背板；该材料质地脆，加工、搬运容易崩边掉角；暴露空气表面会缓慢氧化变色，需要真空密封包装保存，避免氧化影响镀膜质量。

工艺提醒：Bi 属于低熔点靶，溅射过程必须充分水冷，功率不能过高，否则靶面熔融流淌报废。

高纯铋靶材（Bi）产品应用

薄膜应用：
1. 热电薄膜：制备 Bi‑Te、Bi‑Sb 基热电薄膜，用于微型热电器件、温差发电传感器。
2. 拓扑绝缘体薄膜：科研制备 Bi₂Se₃、Bi₂Te₃拓扑绝缘体外延薄膜，自旋电子、量子材料研究领域大量使用。
3. 红外光电、探测器：红外焦平面、红外传感器件功能薄膜制备。
4. X 射线 / 辐射防护薄膜：铋对 X 射线吸收能力强，制备轻薄屏蔽涂层。
5. 光学镀膜：特种光学涂层、玻璃功能膜。
6. 相变存储、半导体科研：相变材料薄膜、实验室 PVD 镀膜研发。
7. 装饰、功能涂层：部分耐蚀、特殊色泽镀层。

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