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二硼化铪靶材(HfB2)

二硼化铪靶材(HfB2)
  • 二硼化铪靶材(HfB2)
二硼化铪靶材(HfB2)基本信息
分子式HfB₂
纯度99.9%
CAS号12007-23-7
摩尔质量200.11 g/mol
密度10.5 g/cm³
熔点3250 ℃
沸点无明确常压沸点,超高温下缓慢分解
溶解性(水)不溶于水、稀盐酸、稀硫酸;仅可被氢氟酸、含氟混合酸腐蚀;常温化学稳定性良好

二硼化铪靶材(HfB2)产品概况

二硼化铪(HfB₂)为六方晶系 AlB₂型结构,属于超高温陶瓷(UHTC),兼具高熔点、高硬度、良好导电导热性能。 制备路线:高纯 HfB₂粉体,采用 SPS 放电等离子烧结或真空热压成型;烧结难度高,对气氛、温度控制严苛,易残留孔隙、杂相(HfO₂是最常见杂质)。 靶材形态:圆形 / 矩形平面靶,以科研小尺寸定制靶居多,量产靶较少;可绑定无氧铜背板。 核心质控指标:致密度、物相纯度(避免氧化铪杂相)、晶粒均匀度、氧碳间隙杂质、Zr 杂质含量(铪矿中锆共生,属于固有杂质)。

二硼化铪靶材(HfB2)产品应用

薄膜应用:
1. 航空航天超高温热防护薄膜(最主要):高超音速飞行器前缘、鼻锥、火箭构件热防护涂层;高温下可生成 HfO₂氧化保护层,抗烧蚀、抗热震。
2. 半导体先进互连研发:Cu 互连扩散阻挡层、耐高温 MEMS 电极、高温稳定薄膜电阻;高温下抑制铜硅互扩散,用于功率器件、高温传感器。
3. 硬质耐磨涂层:精密模具、刀具耐高温耐磨防护薄膜,高硬度,适合高温服役工况。
4. 核功能薄膜:中子吸收薄膜、辐照防护涂层,核科研器件薄膜。
5. 前沿科研:超高温陶瓷异质薄膜、热电、高温电子器件基础研究。

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