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铝铬合金磁控溅射靶材Al1.3Cr2at

铝铬合金磁控溅射靶材Al1.3Cr2at
  • 铝铬合金磁控溅射靶材Al1.3Cr2at
铝铬合金磁控溅射靶材Al1.3Cr2at基本信息
分子式Al1.3Cr2at
纯度99.95%‑99.99%
CAS号
摩尔质量
密度
熔点
沸点
溶解性(水)

铝铬合金磁控溅射靶材Al1.3Cr2at产品概况

基体是金属铝,只掺入少量铬(1.3at%),不是高铬 AlCr 刀具涂层靶(那种一般 20‑30at% Cr)。

铝铬合金磁控溅射靶材Al1.3Cr2at产品应用

半导体、显示面板导电薄膜:纯铝膜容易电迁移失效,掺入少量 Cr,抑制晶粒长大,提升铝导电膜抗电迁移、抗氧化能力。
科研镀膜实验,调控铝基薄膜电学、微观晶粒性能。
不用于刀具硬质涂层:刀具 AlCr 靶一般 Cr 为 25‑35at%,属于完全不同牌号

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